Povlakování technologií PEMS®

Aby byla zajištěna kvalita tvrdých povlaků, vytvořených procesy PVD a PACVD, musí být naprašování iontů na povlakované dílce kontrolováno a řízeno.

K tomu naprašování dochází již během čištění dílců, před povlakováním. Toto čištění se také nazývá iontovým leptáním. Leptání se provádí bombardováním dílců energeticky hodnotnými ionty tak, aby byly vypuzeny atomy z povrchu dílců, které mohou bránit tvorbě adhezního povlaku. Účinnost a intenzita čištění je dána dvěma parametry a to energií iontů a iontovým tokem. Tyto parametry tak nepřímo ovlivňují budoucí adhezi povlaku na dílcích. Mnohé studie ukázaly, že nejvíce homogenní leptání trojrozměrných objektů dosáhneme při nízké energii iontů se současným silným tokem.

Iontové naprašování se také používá během procesu povlakování. Podobně jako u leptání je tato fáze závislá na obou zmíněných parametrech: iontovém toku a energii iontů. Tyto parametry určují růst a hustotu povlaku.

Aby bylo možné řídit a monitorovat procesy leptání a povlakování, vyvinula H.E.F. zařízení, které umožňuje vývoj iontové plazmy reakčního plynu nezávisle na plazmě, která vytváří odpar kovu požadovaného k procesu povlakování. Toto originální zařízení se nazývá PEMS® a umožňuje absolutně nezávislé nastavení energie iontů a iontového toku. To umožňuje optimální leptání povrchu dílců před povlakováním a vytvoření kompaktních vrstev s vysokou hustotou.